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纳米制程遇瓶颈 业者积极研发次世代存储器
日期:2011-8-1 9:32:04 点击:
来源:中国传动网
作者: 未知
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      随著存储器容量越来越大,NANDFlash产业制程在进入20纳米制程后,也开始遇到瓶颈,业界在未来制作更大容量存储器上,面临是否继续发展纳米的抉择。日本方面尽管在微缩的技术上些微领先最大竞争对手公司韩国三星(SamsungElectronics),但短期内该技术也将可能面临瓶颈,因此如东芝(Toshiba)及尔必达(Elpida)等公司,均已决定投入3D存储器的开发。
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  东芝将在2013年推出3DNANDFlash。此新技术将纪录单元发展从平面改为3D垂直堆积,透过叠合多层纪录单元的方式,在运用目前纳米技术的情况下做出大容量存储器,且因可利用现有半导体制造设备,而节省不少成本。在众多3D存储器技术中,东芝表明将利用可形成多层纪录单元的BiCS(BitCostScalable)。
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  在NANDFlash市场中,三星市占率一直处于领先地位,东芝则依靠其微缩技术紧追在后。但是过于微缩带来的后果将是电流容易外漏,使得业界一般认为,2015年微缩技术的发展将达到极限。
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  目前东芝正同时进行微缩技术及3DNANDFlash开发,并对微缩技术仍进行大规模投资。对此东芝表示,由目前的19纳米到15纳米间的制程微缩技术仍然可行,但10纳米上下的制程将成为难关。纳米制程将来的不确定性,将可能使东芝提早转向3DNANDFlash。
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  另一方面,由尔必达(Elpida)与夏普(Sharp)共同研发的次世代存储器ReRAM(ResistiveRandom-AccessMemory)也即将上市。ReRAM拥有纪录单元构造简单,耗电量低的特性,理论上资料写入速度可较NANDFlash快上数千倍,未来可能于2013年推出,并成为NANDFlash的后继者。此外,美国美光科技(Micron)也已着手开发ReRAM,最快将在2013~2014年间开始量产。
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  韩国半导体大厂海力士(Hynix)在东芝的协助下,加紧开发写入速度快速且耗电量低的磁阻式随机存取存储器(MagneticRAM;MRAM),计划赶在2014年达到量产目标。
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  而实力雄厚的三星则利用其丰富的资源,同时开发3DNANDFlash、MRAM、ReRAM等多种技术,并将于2013年推出第1阶段以东芝BiCS技术为基础的3DNANDFlash产品。为巩固全球市占率龙头宝座,三星在研发上可说是下足功夫,以多方面同时推进的战术兼顾各种技术。
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  对于存储器产业的未来,东芝高层认为,群雄割据的时代将再度来临。尽管目前仍无法确定制程微缩的极限,也无法得知究竟何种存储器技术将胜出,但各家厂商目前所下的决策将确实影响10年后的存储器产业。
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